? ? ? ?媒體報道，日本半導(dao)(dao)體材料制造(zao)商(shang)近日JSR宣布，它已簽署協議將以5.14億美元(約合人民幣24.46億元)收購美國半導(dao)(dao)體材料廠(chang)商(shang)Inpria Corp.（以下簡稱Inpria）。目前JSR持有(you)Inpria 21%的(de)股份。通過這筆交(jiao)易(yi)(yi)，JSR將收購Inpria的(de)剩余(yu)股份，從而使得Inpria成為JSR的(de)全資子公司。據報道，這筆交(jiao)易(yi)(yi)預計將于2021年10月底(di)完成。

? ? ? ?日本(ben)合(he)成(cheng)橡(xiang)膠(jiao)(jiao)公(gong)司（JSR）成(cheng)立于1957年，總部位于日本(ben)東京，是一(yi)家以研究為導(dao)向(xiang)的跨國(guo)公(gong)司，專注于數(shu)字(zi)解(jie)決方案，包括(kuo)半導(dao)體和生(sheng)命科學(xue)市場(chang)。JSR主要聚焦四大主業：合(he)成(cheng)橡(xiang)膠(jiao)(jiao)（收入占(zhan)比38%）、數(shu)碼(ma)解(jie)決方案（31%）、塑料(liao)（20%）與生(sheng)命科學(xue)（11%），其(qi)中(zhong)數(shu)碼(ma)解(jie)決方案涵蓋光刻材料(liao)、化學(xue)機械拋光CMP材料(liao)等。

? ? ? ?Inpria成立(li)于2007年，一直致力于開發基于金(jin)屬的EUV光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠，金(jin)屬基光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠在(zai)干(gan)蝕刻(ke)(ke)過程中的圖案轉移性能方面優于傳統(tong)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠，非常適合半導體量產工藝。隨著此次收購的完成，JSR將把Inpria的金屬基光刻(ke)(ke)膠(jiao)添加到JSR的光刻(ke)(ke)膠(jiao)產品組(zu)合中，進一步提升光刻(ke)(ke)膠(jiao)市場份額(e)。

? ? ? ?EUV也(ye)就是極紫(zi)外(wai)光(guang)刻膠，使用波長為13.5nm的紫(zi)外(wai)光(guang)，可以用于10nm以下的先進制程，但目前EUV光(guang)刻機(ji)只(zhi)有荷蘭(lan)ASML能制造。目(mu)前成熟的(de)(de)光刻技術是193nm浸(jin)沒(mei)式光刻工(gong)藝，經多重曝光后其能(neng)夠實現的(de)(de)特征尺寸已(yi)經可以(yi)(yi)(yi)達(da)到30nm以(yi)(yi)(yi)下(xia)(xia)。但隨著摩爾(er)定律的(de)(de)不斷推進，該工(gong)藝已(yi)很(hen)難滿足22nm節點以(yi)(yi)(yi)下(xia)(xia)的(de)(de)光刻需(xu)求，與之(zhi)配(pei)套的(de)(de)EUV光刻膠(jiao)逐漸成為(wei)下(xia)(xia)一代光刻膠(jiao)的(de)(de)研發(fa)重點。雖然EUV制程能夠進一步減小(xiao)芯片(pian)尺(chi)寸，提(ti)升(sheng)器件性能，但是其前期巨大的資本和人力投(tou)入也讓大部分(fen)廠(chang)商望而卻步。EUV技(ji)術能夠有效延長摩爾(er)定律壽命，但是要想進一步釋放(fang)下一代計算(suan)機潛能仍需找到顛(dian)覆(fu)性的材(cai)料和器件。